氢气与四氯化硅反应生成半导体材料硅和氯化氢气体的化学反应方程式

发布网友 发布时间:2022-04-23 17:29

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热心网友 时间:2023-10-11 01:58

氢气与四氯化硅反应生成半导体材料硅和氯化氢气体的化学反应方程式:
SiCl4 + 2H2 ===Si +4HCl

热心网友 时间:2023-10-11 01:59

SiCl4 + H2 === HCl + SiHCl3
用氢气作为还原剂,在1100~1200℃下还原SiHCl3
1100~1200℃
SiHCl3 + H2 ====== Si + 3HCl

热心网友 时间:2023-10-11 01:59

SiCl4 + 2H2 ===Si +4HCl

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