求教关于IC工艺方面 复晶硅蚀刻液，成份为HNO3、CH3COOH、HF，它与硅反应的原理是什么？
发布网友
共2个回答
热心网友
HNO3将Si氧化成SiO2，HF与SiO2生成络合物（腐蚀开始），醋酸是缓冲剂
热心网友
我们是专业处理 线路板蚀刻液的.不知道你的这个是指什么? 与铜 ?钢板?
